產(chǎn)品名稱:HMDS預(yù)處理真空烘箱
產(chǎn)品型號(hào):BD/HMDS-6210
更新時(shí)間:2024-08-20
產(chǎn)品特點(diǎn):HMDS預(yù)處理真空烘箱 產(chǎn)品用途:該產(chǎn)品主要用于半導(dǎo)體行業(yè),HMDS預(yù)處理系統(tǒng)通過(guò)對(duì)烘箱HMDS預(yù)處理過(guò)程的工作溫度、處理時(shí)間、處理時(shí)保持時(shí)間等參數(shù)可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS,降低了HMDS處理后的硅片接觸角,降低了光刻膠的用量,提高光刻膠與硅片的黏附性。
HMDS預(yù)處理真空烘箱
產(chǎn)品用途:該產(chǎn)品主要用于半導(dǎo)體行業(yè),HMDS預(yù)處理系統(tǒng)通過(guò)對(duì)烘箱HMDS預(yù)處理過(guò)程的工作溫度、處理時(shí)間、處理時(shí)保持時(shí)間等參數(shù)可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS,降低了HMDS處理后的硅片接觸角,降低了光刻膠的用量,提高光刻膠與硅片的黏附性。
一、產(chǎn)品規(guī)格:
型號(hào):BD/HMDS-6090 內(nèi)形尺寸:450×450×450
型號(hào):BD/HMDS-6210 內(nèi)形尺寸:560×640×600
二、 技術(shù)參數(shù):
1、控溫范圍:RT+10~250℃
2、溫度分辨率:0.1℃
3、溫度波動(dòng)度:±1℃
4、達(dá)到真空度:小于133Pa
5、真空度:100Pa~100000Pa
6、定時(shí)范圍:1~9999min
7、工作室材料:316L
8、樣品架:2塊、3塊
9、真空泵:4L/S
10、電源電壓:220V/50Hz、380V/50Hz三相五線制
11、總功率:3000W、4500W
三、產(chǎn)品特點(diǎn):
1、外殼采用冷軋鋼板制造,表面靜電噴塑。內(nèi)膽、樣品機(jī)、連接管路均采用優(yōu)質(zhì)不銹鋼316L材料制成;加熱器均勻分布在內(nèi)膽外壁四周,內(nèi)膽內(nèi)無(wú)任何電氣配件及易燃易爆裝置。鋼化、防彈雙層玻璃門觀察工作室內(nèi)物體一目了然。
2、箱門閉合松緊能調(diào)節(jié),整體成型的硅橡膠門封圈,確保箱內(nèi)高真空度。
3、HMDS氣體密閉式自動(dòng)吸取添加設(shè)計(jì),真空箱密封性能佳,確保HMDS氣體無(wú)外漏顧慮。
四、 HMDS預(yù)處理系統(tǒng)操作流程:
1、首先確定烘箱工作溫度;
2、預(yù)處理程序?yàn)椋捍蜷_(kāi)真空泵抽真空,待腔內(nèi)真牢度達(dá)到某一高真空度后,開(kāi)始充入氮?dú)猓涞竭_(dá)到某低真空度后,再次進(jìn)行抽真空、充入氮?dú)獾倪^(guò)程,到達(dá)設(shè)定的充入氮?dú)獯螖?shù)后,開(kāi)始保持一段時(shí)間,使硅片充分受熱,減少硅片表面的水分;
3、再次開(kāi)始抽真空,充入HMDS氣體,在到達(dá)設(shè)定時(shí)間后,停止充入HMDS藥液,進(jìn)入保持階段,使硅片充分與HMDS反應(yīng);
4、當(dāng)達(dá)到設(shè)定的保持時(shí)間后,再次開(kāi)始抽真空。充入氮?dú)猓瓿烧麄€(gè)作業(yè)過(guò)程。
五、控制系統(tǒng):
1、7.0英寸維綸彩色觸摸屏,三菱PLC控制器;
2、富士微電腦雙數(shù)顯溫度PID控制器,控溫精que可靠;
六、保護(hù)系統(tǒng):
1、漏電保護(hù);
2、超溫保護(hù);
3、缺液保護(hù);
七、設(shè)備使用條件:
1、環(huán)境溫度:5℃~+28℃(24小時(shí)內(nèi)平均溫度≤28℃)
2、環(huán)境濕度:≤85%R.H
3、操作環(huán)境需要室內(nèi)通風(fēng)良好,機(jī)器放置前后左右各80公分不可放置東西;
八、 HMDS預(yù)處理真空烘箱 服務(wù)承諾:
保修十八個(gè)月,免費(fèi)送貨上門,在對(duì)該設(shè)備安裝調(diào)試結(jié)束后,在用戶現(xiàn)場(chǎng)對(duì)相關(guān)技術(shù)人員免費(fèi)做相應(yīng)的操作培訓(xùn),人數(shù)不限
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